時間:2026/10/1 上午11:10-12:00

地點:2601R

講者:名古屋大學低溫電漿科學研究中心 蕭世男教授

演講題目:Cryogenic Plasma Etching towards Next-Generation Semiconductor Fabrication

本演講活動由教育部高等教育深耕計畫補助